Czyszczenie plazmowe i gdzie jest stosowane?

Czyszczenie plazmowe jest wykorzystywane do czyszczenia powierzchni wielu materiałów i przygotowywania ich do dalszego przetwarzania, tj. malowania, powlekania i enkapsulacji itp.

Proces czyszczenia (zwany także wytrawianiem plazmowym)może obejmować tlen (powietrze), argon i każdy inny pierwiastek, który spełnia potrzeby związane z powierzchnią. Czyszczenie plazmowe jest metodą, w której strumień o wysokiej energii jest kierowany w stronę powierzchni, którą należy wyczyścić.

Czyszczenie plazmowe jest zwykle wykorzystywane do przygotowania powierzchni przed przetworzeniem np. zalewaniem, drukowaniem, powlekaniem i malowaniem itp.

Wśród podstawowych zastosowań plazmy czyszczącej znajduje się czyszczenie aparatury pomiarowej, podłoży w tle, obejmujące usuwanie zanieczyszczeń organicznych prowadzących do automatycznej fluorescencji i czyszczenie pól kontaktowych wiązań itp. Plazma czyszcząca służy również do usuwania obcych zanieczyszczeń, takich jak pozostałości po obróbce mineralnej i organicznej. Jest ona również pomocna w czyszczeniu części poprzedzającym powlekanie, a następnie enkapsulacji, której towarzyszy czyszczenie aparatu UHV bardzo drobną plazmą. Plazma czyszcząca jest zatem stosowana w wielu branżach, gdzie istnieje potrzeba czyszczenia jakiejkolwiek powierzchni!

Czyszczenie plazmowe: Plazma służy do czyszczenia i przygotowywania powierzchni do różnych procesów produkcyjnych

Czyszczenie plazmowe można wykorzystywać w następujących celach:

Usuwanie efektów utlenienia powierzchni
Usuwanie pozostałości oleju mineralnego z powierzchni
Przygotowywanie powierzchni elastomerów, metali i tworzyw sztucznych
Czyszczenie ceramiki
Eliminacja potrzeby stosowania rozpuszczalników chemicznych
Czyszczenie powierzchni metalowych do bardzo głębokiego poziomu
Usuwanie zanieczyszczeń organicznych
Przygotowywanie powierzchni produktów szklanych np. artykułów okulistycznych

Zalety czyszczenia plazmowego

Jedną z wielu zalet czyszczenia plazmowego jest fakt, że jest to proces przyjazny dla operatora, a także technika sucha i przyjazna dla środowiska, ponieważ nie wymaga stosowania trichloroetylenu. Dodatkowo koszty związane z jej stosowaniem są niskie, a jakość czyszczenia jest najwyższa. Wzmacnia również wiązanie przez stymulowanie przyczepności.

Czyszczenie plazmowe pozwala łatwo usunąć wszelkie zanieczyszczenia organiczne obecne na danej powierzchni przez ablację fizyczną, która polega na zastosowaniu plazmy argonowej lub reakcji chemicznej wywoływanej przez tlen (powietrze). Proces ten może znacznie pomóc w czyszczeniu powierzchni, na które czyszczenie rozpuszczalnikami wywiera niekorzystnie wpływ, czyli powierzchnie z ograniczonym napięciem. Powierzchnie te czyści się z wykorzystaniem mikrokanałów lub porowatości w mikroskali..

Kolejną zaletą stosowania plazmy czyszczącej na powierzchniach materiałów jest to, że wyeliminuje ona potrzebę stosowania rozpuszczalników chemicznych, eliminując w ten sposób potrzebę przechowywania i usuwania odpadów rozpuszczalnikowych.

Proces ten nie jest ostry, jak tradycyjne metody stosowane do obróbki powierzchni (przeczytaj o podstawach obróbki plazmowej tutaj), co oznacza, że będziesz w stanie wyczyścić powierzchnię bez utraty wielu ważnych cech materiału, do której dochodzi podczas tradycyjnego czyszczenia powierzchni. Proces ten jest również przydatny podczas obróbki wielu różnych i złożonych powierzchni, które mogą obejmować włókna optyczne, szkiełka, powierzchnie metalowe, takie jak złoto, półprzewodniki i tlenki itp.